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GCCD03B-85(85寸三动态450幅面,其他尺寸可定制)

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  • GCCD03B-85(85寸三动态450幅面,其他尺寸可定制)

    特点:

    1.适合85以上屏加工,尺寸定制;
    2.三振镜加工,效率成倍提升
    3.能有效减少超大屏加工拼接次数,精度高;
    4.单次加工幅面450mmx1320mm,线宽可达到35μm

    优势:

    1.动态聚焦可有效解决材料印刷偏位问题,提升良率;
    2.可实现异形排版单料纠偏;
    3.单次加工幅面大,无需多次拼接,提升精度;
    4.相比非动态设备,加工速度更快
    5.可配备自动上下料系统
    6. 特别适合超大尺寸加工。

  • 应用于大尺寸电容屏导线及可视区蚀刻,特别适用于银浆、ITO、CNT、石墨烯、纳米银、碳纳米管、高分子导电膜/玻璃等片材或卷材璃等片材或卷材
  • 加工对象

    电容屏

    加工材料

    银浆、ITO、CNT、石墨烯等


    蚀刻材料厚度/蚀刻线宽

    35μm ~45μm

    (视具体材料材质与膜厚及膜厚均匀度而定)

    线性度

    ±3μm

    综合定位精度

    ±10μm(排除材料印刷误差)

    重复加工精度

    ±2μm

    拼接精度

    ±5μm

    工作平台面积

    定制

    有效加工面积

    定制

    定位方式

    双CCD自动定位

    加工速度

    ≤4500 mm/s(视具体材料而定)

    最大单PCS加工范围

    450 mm×1320 mm(据实际线宽要求而定)